哈爾濱工業(yè)大學(xué)機(jī)電學(xué)院高真空多功能薄膜沉積系統(tǒng)招標(biāo)
發(fā)布日期：2015年08月13日
正文內(nèi)容
| 采購業(yè)主 | 曹老師 | 所屬地區(qū) | 黑龍江省 | 加入日期 | 2015年08月13日 |
| 招標(biāo)公司 | 中央國家機(jī)關(guān)政府采購中心 | 招標(biāo)編號 | GDC-20150811155909272 |
正文內(nèi)容
| 中央國家機(jī)關(guān)政府采購中心網(wǎng)上競價(jià)項(xiàng)目——需求公告 | ||||||||
| 公告時(shí)間： | 2015-08-13 08:50:10 | |||||||
| 項(xiàng)目名稱： | 哈爾濱工業(yè)大學(xué)機(jī)電學(xué)院高真空多功能薄膜沉積系統(tǒng)采購項(xiàng)目 | |||||||
| 項(xiàng)目編號： | GDC-20150811155909272 | |||||||
| 中央國家機(jī)關(guān)政府采購中心受采購單位 哈爾濱工業(yè)大學(xué) 委托, 對下列貨物及服務(wù)進(jìn)行網(wǎng)上電子政府采購,現(xiàn)邀請合格投標(biāo)人進(jìn)行網(wǎng)上競價(jià)。 | ||||||||
| 采購項(xiàng)目信息 | ||||||||
| 采購單位： | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) | 報(bào)價(jià)截止時(shí)間： | 2015-08-21 08:50:10 | |||||
| 聯(lián)系人： | 曹老師 | 送貨地點(diǎn)： | 哈工大一校區(qū) | |||||
| 聯(lián)系電話： | 13796028137 | 到貨時(shí)間： | 采購結(jié)果公告后 50 天內(nèi)到貨 | |||||
| 聯(lián)系郵件： | * | 項(xiàng)目預(yù)算： | 395000.0 (注：此預(yù)算在采購人可支付的情況下可增加金額) | |||||
| 剩余時(shí)間： | 簽約時(shí)間： | 成交公告發(fā)布后14個(gè)工作日內(nèi)簽署合同 | ||||||
| 資質(zhì)要求 | ||||||||
| 售后服務(wù)網(wǎng)點(diǎn)： | 無具體要求 | 銷售資質(zhì)需求： | ||||||
| 專業(yè)資質(zhì)需求: | ||||||||
| 踏勘需求 | ||||||||
| 踏勘地點(diǎn)： | 無 | 踏勘時(shí)間： | 無 | |||||
| 聯(lián)系人： | 無 | 聯(lián)系電話： | 無 | |||||
| 資質(zhì)要求： | 根據(jù)《中央國家機(jī)關(guān)政府采購中心網(wǎng)上競價(jià)操作規(guī)程》（國機(jī)采辦【2014】10號），采購人對產(chǎn)品質(zhì)?；蚴酆缶S保有要求的，供應(yīng)商應(yīng)按要求上傳相應(yīng)的質(zhì)?；蚴酆缶S保承諾函。承諾函應(yīng)當(dāng)真實(shí)有效。 售后服務(wù)承諾函或承諾書應(yīng)加蓋公章并以附件形式上傳。在售后服務(wù)承諾函或承諾書之外進(jìn)行說明內(nèi)容的不視為有效文件。 供應(yīng)商在競價(jià)時(shí)，須根據(jù)資質(zhì)要求中的內(nèi)容以附件形式上傳相關(guān)資質(zhì)證明。 |
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| 采購商品信息 | ||||||||
| 商品分類 | 參考品牌 | 規(guī)格型號 | 單位 | 數(shù)量 | 產(chǎn)地要求 | 維保質(zhì)保要求 | 偏離表 | 技術(shù)指標(biāo) |
| 實(shí)驗(yàn)室設(shè)備 | 新藍(lán)天 | FZJ500 | 臺 | 1 | 中國 | 原廠1年 | 1、設(shè)備用途：在高真空環(huán)境下，對不同的基體材料進(jìn)行電子束蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜。主要用于氧化物、陶瓷和各種高熔點(diǎn)金屬材料的電子束蒸發(fā)和磁控濺射。 2、腔室尺寸：電子束蒸發(fā)腔室：真空室尺寸Φ500×H500（mm）筒式單層真空室，在真空室壁上焊接水冷槽，通過循環(huán)水對真空室進(jìn)行冷卻。磁控濺射腔室：磁控濺射腔室坐在蒸發(fā)室的右邊，真空室尺寸Φ450×H450（mm）筒式單層真空室，大法蘭蓋電動升降。 3、系統(tǒng)真空性能指標(biāo)： 3.1電子束蒸發(fā)室極限真空：連續(xù)烘烤36小時(shí)（≤150℃）連續(xù)抽氣其極限真空≤1.0×10-4Pa。 3.2磁控濺射室極限真空：連續(xù)烘烤36小時(shí)（≤120℃）連續(xù)抽氣其極限真空≤1.0×10-4Pa。 3.3蒸發(fā)室抽氣速率：從大氣開始抽氣，在≤40分鐘內(nèi)，真空度≤8×10-4Pa 3.4濺射室抽氣速率：從大氣開始抽氣，在≤40分鐘內(nèi)，真空度≤8×10-3Pa。 3.5蒸發(fā)室漏率：停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，測其真空度≤5Pa。 3.6濺射室漏率：停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，測其真空度≤5Pa。 4、電子槍主要技術(shù)參數(shù)：電子槍功率6KW，電子束偏轉(zhuǎn)角270?，束流在0-600mA范圍內(nèi)可調(diào)，四穴水冷銅坩堝，坩堝容積為20ml，深度為22mm，可電動換位，遙控盒手持操作，槍電源高壓滅弧自動復(fù)位，冷卻水：流量≥10L/min，水壓≥0.15Mpa， 入口水溫≤25℃。 5、樣品臺：蒸發(fā)室和磁控濺射室的樣品臺為同一結(jié)構(gòu)，具有同樣功能，可放樣品尺寸：100×100（mm），加熱溫度：室溫~300℃，溫度可控可調(diào)，樣品與干鍋之間的距離300mm±30可調(diào)，樣品與磁控靶之間距離100mm±30可調(diào)；樣品轉(zhuǎn)動速度0~20r/min可調(diào)。 6、磁控靶：2支Φ4"永磁靶，RF&DC兼容；均設(shè)置電動擋板，在暴露大氣時(shí)2支靶可調(diào)整相對基片的距離和角度。 7、電源：電子槍電源，樣品溫控電源，控制電源，照明烘烤電源，中頻電源，直流電源。 8、進(jìn)氣系統(tǒng)：MFC質(zhì)量流量控制器：兩路進(jìn)氣，O2:0~50sccm；Ar：0~100sccm。 | |
| 我要競價(jià) | ||||||||
