北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司（原北京儀器廠）創(chuàng)建于1954年，總部位于中央商務(wù)區(qū)（CBD）的中心位置。生產(chǎn)基地位于大興工業(yè)開發(fā)區(qū)，占地面積31064平方米，建筑面積45504平方米。2003年通過ISO-2000質(zhì)量體系認(rèn)證。共有真空獲得、真空測量、真空應(yīng)用三大類產(chǎn)品，從低真空到超高真空30多個系列160多個品種。產(chǎn)品廣泛地應(yīng)用于航天航空、電子信息、光學(xué)產(chǎn)業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經(jīng)過50多年對真空技術(shù)的探索，通過與全國多所大專院校、研究院所進行的多次合作開發(fā)，以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng)新與研發(fā)，北儀創(chuàng)新公司始終站在中國真空行業(yè)的前沿。

        在真空測量技術(shù)、真空獲得技術(shù)、光學(xué)多層全自動鍍膜技術(shù)、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術(shù)（DC、MC、RF濺射技術(shù)）以及PECVD技術(shù)等方面處于國內(nèi)領(lǐng)先，并有多項科研成果獲得國家專利。近年來，為多個院校、研究院所開發(fā)制造多臺用于研究薄膜太陽能電池的實驗室設(shè)備。在擁有成熟的真空技術(shù)的基礎(chǔ)上，2006年北儀創(chuàng)新公司研制成功了國內(nèi)s*條自行設(shè)計制造的非晶硅薄膜太陽能電池生產(chǎn)線，其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術(shù)，用于生產(chǎn)大型玻璃光電模板一次完成多片數(shù)十平方米的雙節(jié)非晶硅薄膜的沉積。