【康沃真空網(wǎng)】三）制備銀納米顆粒與薄膜
　　制備銀納米粒子的常用方法有物理方法和化學(xué)方法?；瘜W(xué)方法包括溶膠凝膠法、電鍍法、氧化一還原法、靜電噴涂法。利用化學(xué)方法所得到的銀顆粒z*小可達(dá)幾納米。實(shí)驗(yàn)簡單、方便，但所得銀顆粒不易轉(zhuǎn)移和組裝，且雜質(zhì)含量較高，容易形成團(tuán)聚大顆粒。
　　物理制備方法主要有真空蒸鍍、濺射底和離子鍍。濺射鍍又包括直流濺射鍍、磁控濺射鍍、射頻濺射鍍、反應(yīng)濺射鍍和新發(fā)展的微波控制的共濺射鍍等。真空蒸發(fā)方法是發(fā)展z*早、應(yīng)用z*廣的銀納米粒子的制備方法，其原理簡單，操作方便。通過控制蒸發(fā)參數(shù)可制備幾納米到幾十納米的顆粒，但所得納米粒子定向生長性差，納米粒子分散度大，顆粒形狀和粒度分布不均勻。濺射方法是20世紀(jì)40年代開始發(fā)展的制備方法，在現(xiàn)代工業(yè)和科學(xué)研究中得到廣泛應(yīng)用。濺射方法與蒸發(fā)方法一樣，操作簡單。特別是1970年出現(xiàn)的磁控濺射技術(shù)，具有高速、低溫兩大特點(diǎn)，通過對濺射參的控制，可以制備出幾納米到幾十納米的顆粒，所得納米顆粒尺寸小，定向生長性妤，顆粒形狀較整齊，粒度小，較均勻。離子鍍也是一種新型的制備方法，所制備的納米顆粒尺寸小，粒子形狀整齊，粒度也較均勻，但其設(shè)備較昂貴。z*新的納米粒子的制備設(shè)備是流動液面真空蒸鍍裝置，它可制備出O.1nm的團(tuán)簇粒子，顆粒均勻度很高，是一種非常好的銀納米制備設(shè)備，但設(shè)備昂貴，不適合運(yùn)用于工業(yè)生產(chǎn)中。