【康沃真空網(wǎng)】10月13日消息，日本佳能宣布推出新型光刻設(shè)備：FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備！

　　受此消息影響，納米壓印概念股午后走高，匯創(chuàng)達(dá)午后開(kāi)盤拉升漲超11%，美迪凱、晶方科技、利和興、蘇大維格等紛紛大幅拉升。

　　據(jù)佳能介紹，傳統(tǒng)的光刻設(shè)備通過(guò)將電路圖案投射到涂有抗蝕劑的晶圓上，而佳能此新產(chǎn)品通過(guò)在晶圓上的抗蝕劑上壓印有電路圖案的掩模來(lái)實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，就像郵票一樣。

　　據(jù)了解，佳能的納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，NIL）技術(shù)可實(shí)現(xiàn)最小線寬14nm的圖案化，相當(dāng)于生產(chǎn)目前最先進(jìn)的邏輯半導(dǎo)體所需的5nm節(jié)點(diǎn)。此外，隨著掩模技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)，NIL有望實(shí)現(xiàn)最小線寬為10nm的電路圖案，相當(dāng)于2nm節(jié)點(diǎn)。

　　資料顯示，納米壓印是一種微納加工技術(shù)，它采用傳統(tǒng)機(jī)械模具微復(fù)型原理。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，傳統(tǒng)的光刻設(shè)備通過(guò)將電路圖案投影到涂有抗蝕劑的晶圓上來(lái)轉(zhuǎn)移電路圖案，而納米壓印光刻造芯片則通過(guò)將印有電路圖案的掩模壓印在晶圓上的抗蝕劑上，就像印章蓋在橡皮泥上，然后經(jīng)過(guò)脫模就能夠得到一顆芯片。

　　官方消息顯示，佳能早在2004年開(kāi)始秘密研發(fā)NIL技術(shù)，2014年美國(guó)分子壓印公司（現(xiàn)佳能納米技術(shù)）加入佳能集團(tuán)，該研發(fā)消息才被公開(kāi)。