真空鍍膜技術(shù)常用的有蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍，本文我們來(lái)了解一下離子鍍膜技術(shù)，雖然基本的原理都是離子化后成膜，但常用的還可以分為三類，分別為蒸發(fā)離子鍍膜、多弧離子鍍膜、濺射離子鍍膜。 蒸發(fā)離子鍍膜是真空鍍膜機(jī)在高真空狀態(tài)下輸入氬氣，以工件作為陰極，電子產(chǎn)生輝光放電使氬氣成氬離子，氬離子在電場(chǎng)的作用下飛向工件，使工件表面原子電離，利用電阻加熱的方法把靶材蒸發(fā)向上流動(dòng)，沉積于工件表面成膜。 多弧離子鍍膜是真空鍍膜機(jī)通過壓強(qiáng)的轉(zhuǎn)變和脈沖高壓的作用下觸發(fā)電弧放電，產(chǎn)生熱量使靶材蒸發(fā)并電離，由于工件接入電壓比電弧接入電壓低，在電壓差的作用下，靶材離子飛向工件并沉積成膜。 濺射離子鍍膜是真空鍍膜機(jī)輸入氬氣，電子與氬氣相撞發(fā)生輝光放電電離出氬離子，氬離子在電場(chǎng)的作用下再撞擊靶材濺射出靶材原子或離子，z*后沉積于工件表面成膜。 歸納來(lái)說(shuō)，離子鍍膜技術(shù)就是通過把靶材汽化后成離子狀態(tài)，沉積到工件表面，堆積成膜。