【康沃真空網(wǎng)】一、靶材介紹 

　　靶材是半導體、顯示面板、光伏等領(lǐng)域制備功能薄膜的核心原材料，存在工藝不可替代性。

　　由于是在濺射過程中被高速金屬等離子體流轟擊的目標材料，又稱“濺射靶材”，純度為99.95%以上，更換不同靶材可得到不同的膜系，實現(xiàn)導電或阻擋等功能。

　　不同應(yīng)用的靶材品種性能要求各有側(cè)重，重視高附加值的原料制備。

　　整體而言，靶材的純度、致密度和成分均勻性、晶粒等對靶材性能都有一定影響，且針對不同的下游影響程度和側(cè)重點有所不同。

▲ 濺射工藝原理圖，資料來源：江豐電子招股書

　　二、靶材的分類 

　　根據(jù)不同材質(zhì)靶材可分為：金屬靶材，陶瓷靶材，合金靶材。

　　根據(jù)不同應(yīng)用領(lǐng)域可分為:

　　● 半導體靶材：

　　電極、布線薄膜：鋁靶材，銅靶材，金靶材，銀靶材，鈀靶材，鉑靶材，鋁硅合金靶材，鋁硅銅合金靶材等。

　　儲存器電極薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材等。

　　粘附薄膜：鎢靶材，鈦靶材等。

　　電容器絕緣膜薄膜：鋯鈦酸鉛靶材等。

　　● 磁記錄靶材：

　　垂直磁記錄薄膜：鈷鉻合金靶材等。

　　硬盤用薄膜：鈷鉻鉭合金靶材，鈷鉻鉑合金靶材，鈷鉻鉭鉑合金靶材等。

　　薄膜磁頭：鈷鉭鉻合金靶材，鈷鉻鋯合金靶材等。

　　人工晶體薄膜：鈷鉑合金靶材，鈷鈀合金靶材等。

　　● 光記錄靶材：

　　相變光盤記錄薄膜：硒化碲靶材，硒化銻靶材，鍺銻碲合金靶材，鍺碲合金靶材等。

　　磁光盤記錄薄膜：鏑鐵鈷合金靶材，鋱鏑鐵合金靶材，鋱鐵鈷合金靶材，氧化鋁靶材，氧化鎂靶材，氮化硅靶材等。

　　光盤反射薄膜：鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉻合金靶材，金靶材，金合金靶材等。

　　光盤保護薄膜：氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化鋅靶材等。

　　● 顯示靶材：

　　透明導電薄膜：氧化銦錫靶材，氧化鋅鋁靶材等。

　　電極布線薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材，鉭靶材，鉻靶材，鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉭合金靶材等。

　　電致發(fā)光薄膜：硫化鋅摻錳靶材，硫化鋅摻鋱靶材，硫化鈣摻銪靶材，氧化釔靶材，氧化鉭靶材，鈦酸鋇靶材等。

　　● 其他應(yīng)用靶材：

　　裝飾薄膜：鈦靶材，鋯靶材，鉻靶材，鈦鋁合金靶材，不銹鋼靶材等。

　　低電阻薄膜：鎳鉻合金靶材，鎳鉻硅合金靶材，鎳鉻鋁合金靶材，鎳銅合金靶材等。

　　超導薄膜：釔鋇銅氧靶材，鉍鍶鈣銅氧靶材等。

　　工具鍍薄膜：氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，鉻靶材，鈦靶材，鈦鋁合金靶材，鋯靶材，石墨靶材等。

　　三、靶材產(chǎn)業(yè)鏈及市場 

　　靶材制造產(chǎn)業(yè)鏈中主要環(huán)節(jié)為“金屬提純-靶材制造-濺射鍍膜-終端應(yīng)用”四個環(huán)節(jié)，各環(huán)節(jié)附加值的差異也遵從微笑曲線分布。

　　其中濺射鍍膜是整個產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)要求最高的環(huán)節(jié)，濺射薄膜的品質(zhì)對下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要的影響。

▲ 資料來源：萬聯(lián)證券

　　從需求結(jié)構(gòu)來看，顯示用靶材占比最大、國內(nèi)京東方和TCL等廠家份額有望超60%；半導體用靶材市場規(guī)模在兩百億元量級，技術(shù)要求最高，中國大陸及臺灣市場占據(jù)半壁江山。

　　記錄媒體（機械硬盤HDD為主）用靶材份額僅次于顯示領(lǐng)域，HDD相對固態(tài)硬盤在服務(wù)器、數(shù)據(jù)中心等領(lǐng)域優(yōu)勢無可替代，但市場主要以海外為主光伏領(lǐng)域，當前薄膜電池以美國為主，HJT電池由于效率優(yōu)勢隨著成本下降發(fā)展可期。

　　據(jù)中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)，靶材行業(yè)市場空間有望從當前200億元水平增至2023年300億元，3年CAGR9.7%較高增長。