磁控濺射真空鍍膜機(jī)導(dǎo)致不均的因素哪些？專(zhuān)業(yè)從事這方面工作的朋友其實(shí)還是比較的了解的，它主要可以分為以下幾個(gè)因素就是：真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣。

磁控濺射真空鍍膜機(jī)運(yùn)作就是通過(guò)真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)是電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。

真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來(lái)進(jìn)行控制，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開(kāi)動(dòng)并力度一致，這樣就能控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過(guò)有真空計(jì)的存在，要控制好還是不成問(wèn)題的。

磁場(chǎng)是正交運(yùn)作的，但你要將磁場(chǎng)強(qiáng)度做到百分之一百均勻是不可能的，一般磁場(chǎng)強(qiáng)的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以會(huì)造成膜層厚度的不一致，不過(guò)在生產(chǎn)過(guò)程中，由于磁場(chǎng)的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻那闆r卻不是常見(jiàn)的，為什么呢？

原來(lái)磁場(chǎng)強(qiáng)弱雖不好進(jìn)行控制，但同時(shí)工件也在同時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)，且是靶材原子多次沉積此案結(jié)束鍍膜工序，在一段時(shí)間內(nèi)雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個(gè)時(shí)間內(nèi)，磁場(chǎng)強(qiáng)的作用下在原來(lái)薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個(gè)膜層z*終成膜后，均勻性還是比較不錯(cuò)的。

氬氣的送氣均勻性也會(huì)對(duì)膜層均勻性產(chǎn)生影響，其原理實(shí)際上和真空度差不多，因?yàn)闅鍤獾倪M(jìn)入，真空室內(nèi)壓強(qiáng)會(huì)產(chǎn)生變化，均勻的壓強(qiáng)大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機(jī)膜厚度的均勻性。