1.定義
蒸發(fā)物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。
離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術的結合。
2.原理
蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性氬氣，在放電電場作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
3.分類
①磁控濺射離子鍍
②反應離子鍍
③空心陰極放電離子鍍
④多弧離子鍍。
4.特點
真空鍍膜機離子鍍膜技術鍍層附著性能好，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生； 繞鍍能力強，因此這種方法非常適合于鍍復零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫，等其他方法難鍍的部位； 鍍層質量好，離子鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻； 清洗過程簡化。

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

真空鍍膜設備具體應用范圍：
1、在硬質涂層中的應用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。
2、在防護涂層中的應用：飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。
3、在光學薄膜領域中的應用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。
4、在建筑玻璃方面的應用：陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。
5、在太陽能利用領域的應用：太陽能集熱管、太陽能電池等。
6、在集成電路制造中的應用：薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。
7、在信息顯示領域的應用：液晶屏、等離子屏等。
8、在信息存儲領域的應用：磁信息存儲、磁光信息存儲等。
9、在裝飾飾品上的應用：手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。
10、在電子產(chǎn)品領域的應用：液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數(shù)碼相機和掌聲電腦等。

真空鍍膜機檢測氣密性要注意些什么 ?